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PLD沉积腔和控制系统

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  • 发布时间:2016-09-26
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设备编号 2015260700 仪器负责人 李山东
中文名称 PLD沉积腔和控制系统　 英文名称  Pulse    Laser Deposition System
规格型号  PLD-400型　 产地国别 中国
仪器安放地址 青岛大学中心校区西院科技馆四层401
主要科学领域 薄膜生长　
主要技术指标 真空度10-6Pa；样品加热最高温度800摄氏度；真空退火炉最高温度700摄氏度；内置四个靶材托可进行交替溅射；内置样品挡板可进行梯度溅射。　
主要功能    与激光器结合生长薄膜。　

 

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